1

新闻分类

产品分类

联系赢咖3

赢咖3(苏州)精密仪器有限公司

联系人:

王先生+86-13584469633

           +86-512-58915051

张先生+86-15151592697

蒋经理+86-18666211019

地 址:sales@gilitek.cn

邮 编:215600

网 址:

              www.gilitek.cn





         

您的当前位置: 首 页 >> 新闻资讯 >> 行业新闻

主要的镀膜溅射方式有哪些?

发布日期:2020-09-03 00:00 来源:http://www.gzgksw.com 点击:

主要的镀膜溅射方式有哪些?

Q]7V3XQ18(ZKPT`AVM{M){3.png

磁控溅射镀膜设备在目前镀膜行业中是一种不可缺少的镀膜器材,目前大部分镀膜企业都会有使用到。我们平日生产的时候都是由机器生产,那么大家知道目前的磁控镀膜设备主要的溅射方式有哪几种么?下面小编就来给大家讲讲磁控镀膜设备的溅射方式。


磁控溅射镀膜设备原理解析

主要的磁控溅射镀膜设备可以根据其特征分为以下四种:(1)直流溅射;(2)射频溅射;(3)磁控溅射;(4)反应溅射.另外,利用各种离子束源也可以实现薄膜的溅射沉积.

现在的直流溅射(也叫二级溅射)较少用到,原因是溅射气压较高,电压较高,溅射速率小,膜层不稳定等缺点.

直流溅射发展后期,人们在其表面加上一定磁场,磁场束缚住自由电子后,以上缺点均有所改善,也是现阶段广泛应用的一种溅射方法.

而后又有中频溅射,提高了阴极发电速率,不易造成放电、靶材中毒等现象.

而射频溅射是很高频率下对靶材的溅射,不易放电、靶材可任选金属或者陶瓷等材料.沉积的膜层致密,附着力良好.

如果寻找本质区别是:直流溅射是气体放电的前期,而射频是后期,我们最常见的射频是电焊机.溅射过程所用设备的区别就是电源的区别.


相关标签:

上一篇:磁控镀膜机如何使用效率才高?
下一篇:没有了

最近浏览:

相关产品:

相关新闻:

在线客服
二维码

扫描二维码

分享